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產(chǎn)品中心產(chǎn)品介紹
粉底研磨分散機,粉底膠體磨,粉底分散機,化妝品分散機,化妝品研磨分散機,化妝品分散設(shè)備廠家
粉底的類型很多,粉底液、粉餅裝與散粉裝三種,這些粉底均用于調(diào)整膚色,改善面部質(zhì)感,遮蓋瑕疵,體現(xiàn)質(zhì)感,粉底的數(shù)值越大,顏色越深,使用時與膚色的色差不要過大,應(yīng)選擇與膚色接近的粉底。
粉底化妝品乳體液是有油、脂、蠟等許多原料混合而成的一種體系,因此混合機是重要的設(shè)備。為要制得高質(zhì)量的乳體液,必須選用符合生產(chǎn)要求的乳化設(shè)備。研磨分散機是一種剪切力很大的乳化設(shè)備,其主要部件是轉(zhuǎn)子和定子,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速可達7890/13789RPM,這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速,軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是普通膠體磨的3-4倍,研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍,這樣研磨的細度更小,效果更好),可以迅速地將液體、固體或膠體粉碎成微粒,并且混合均勻。
粉底研磨分散機GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
GMD2000 系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。
工作原理:研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
粉底研磨分散設(shè)備是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品:
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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